30-500MHz射频功率放大器定制 能讯通信科技供应

    nmos管mn11的漏极连接电容c11，nmos管mn12的漏极连接电容c12。nmos管mn11的漏极和nmos管mn12的漏极为第二主体电路中激励放大器的输出端。变压器副边的中端和第二变压器副边的中端分别通过电阻连接偏置电压，偏置电压用于为激励放大器中的共源放大器提供偏置电压；激励放大器栅放大器的栅极通过电阻接第二偏置电压。如图3所示，变压器t0副边的中端通过电阻r01接偏置电压vbcs_da，第二变压器t03副边的中端通过电阻r06接偏置电压vbcs_da，偏置电压vbcs_da用于为nmos管mn01、nmos管nm02、nmos管mn09、nmos管mn10提供偏置电压。nmos管mn03的栅极和nmos管mn04的栅极分别通过电阻r02接第二偏置电压vbcg_da，。nmos管mn11的栅极和nmos管mn12的栅极分别通过电阻r07接第二偏置电压vbcg_da，30-500MHz射频功率放大器定制，30-500MHz射频功率放大器定制。nmos管mn01的源极和nmos管mn02的源极接地，nmos管mn03的栅极和nmos管mn04的栅极分别通过电容c03接地。每个主体电路率放大器包括2个共源共栅放大器。如图3所示，主体电路的功率放大器中，nmos管mn05和nmos管mn07构成一个共源共栅放大器，30-500MHz射频功率放大器定制，nmos管mn06和nmos管mn08构成一个共源共栅放大器；第二主体电路的功率放大器中，nmos管mn13和nmos管mn15构成一个共源共栅放大器。谐波抑制，功率放大器的非线性特性使输出包含基波信号同时在各项谐波幅度大小与信号大小呈一定的比例关系。30-500MHz射频功率放大器定制

    LDMOS增益曲线较平滑并且允许多载波射频信号放大且失真较小。LDMOS管有一个低且无变化的互调电平到饱和区，不像双极型晶体管那样互调电平高且随着功率电平的增加而变化，这种主要特性因此允许LDMOS晶体管执行高于双极型晶体管的功率，且线性较好。LDMOS晶体管具有较好的温度特性温度系数是负数，因此可以防止热耗散的影响。由于以上这些特点，LDMOS特别适用于UHF和较低的频率，晶体管的源极与衬底底部相连并直接接地，消除了产生负反馈和降低增益的键合线的电感的影响，因此是一个非常稳定的放大器。LDMOS具有的高击穿电压和与其它器件相比的较低的成本使得LDMOS成为在900MHz和2GHz的高功率基站发射机中的优先。LDMOS晶体管也被应用于在80MHz到1GHz的频率范围内的许多EMC功率放大器中。在GHz输出功率超过100W的LDMOS器件已经存在，半导体制造商正在开发频率范围更高的，可工作在GHz及以上的高功率LDMOS器件。砷化镓金属半导体场效应晶体管（GaAsMESFET）砷化镓（galliumarsenide），化学式GaAs，是一种重要的半导体材料。属于Ⅲ－Ⅴ族化合物半导体，具有高电子迁移率(是硅的5到6倍)，宽的禁带宽度（硅是），噪声低等特点，GaAs比同样的Si元件更适合工作在高频高功率的场合。盐田区射频功率放大器定制输出匹配电路主要应具备损耗低，谐波抑制度高，改善驻波比，提高输出功 率及改善非线性等功能。

    第六电容的第二端连接第二开关的端，第二开关的第二端连接第五电阻的端，第五电阻的第二端连接第五电容的端，第五电容的第二端和第三电容的第二端连接第二电感的第二端；其中，第二开关，用于响应微处理器发出的第七控制信号使自身处于关断状态，以降低反馈深度，实现射频功率放大器电路处于非负增益模式；还用于响应第八控制信号使自身处于导通状态，以增加反馈深度，实现射频功率放大器电路处于负增益模式。需要说明的是，假设射频功率放大器电路在未加入反馈电路时的放大系数为a，反馈电路的反馈系数为f，则加入反馈电路后射频功率放大器电路100的放大系数af＝a/(1+af)，随着反馈电路中等效电阻阻值的降低，反馈系数f变大，反馈深度增加，放大系数af变小，有利于射频功率放大器电路实现负增益模式。其中，第四电阻的阻值大于第五电阻的阻值。第二开关响应微处理器发出的第七控制信号使自身处于关断状态，以降低反馈深度，从而使射频功率放大器电路实现非负增益模式；第二开关响应微处理器发出的第八控制信号使自身处于导通状态，以增加反馈深度，从而使射频功率放大器电路实现负增益模式。在一些实施例中，反馈电路还可如图6所示。

    控制信号vgg通过电阻与开关连接，同时通过备用电阻与备用开关连接。备用电阻的参数与电阻的参数相同，二者都是作为上拉电阻给开关供电。备用开关的参数与开关的参数相同，开关和备用开关的寄生电阻皆为单开关的寄生电阻值ron的一半，因此双开关的整体寄生电阻值与单开关的寄生电阻值相同。开关和备用开关的控制逻辑相同：非负增益模式下，开关和备用开关同时关断；负增益模式下，开关和备用开关同时打开，不需要考虑电阻r1和备用电阻rn。其中，开关和备用开关均为n型mos管，其具体的类型可以是绝缘体上硅mos管，也可以是平面结构mos管。可见，在本申请实施例中，因为使用了叠管设计，将开关和备用开关叠加，使得mos管的耐压能力和静电释放能力提升，相对于单mos管，能在大电流下更好的保护开关和备用开关，使其不被损坏。在一个可能的示例中，输入匹配电路101包括第三电阻r3、电容c1和第二电感l2，第二电感的端连接第二电阻的第二端，第二电感的第二端连接电容的端，电容的第二端连接第三电阻的端。在图9中，假设输入端的输入阻抗zin＝r0-jx0，可控衰减电路的等效阻抗为z20＝r20+jx20，输入匹配电路的等效阻抗为z30＝r30+jx30，为了实现z20和zin的共轭匹配。输出匹配电路确定后功率放大器的输出功率及效率也基本确定了但它 的增益平坦度并不一定满足技术指标的要求。

    P/NBANDGainLinearPowerIccVccVerfAP11102685APAP129431/3219/22145/215APAP10583423/25300/480APEPM24263323/26335/465EPM24283424/28468/668AP30152920/23280/NA3AP3015P2915/18340/390AP3015M2917/18210/170AP5估计大部分国内的读者没有用过RFIC的芯片，笔者也只是看到一些国外的产品在用。没有Datasheet，也没有BriefIntroduction，只能从官网上了解到部分数据，其中EPM2428是**高的型号，其典型参数为：64QAM情况下可达28dBm@EVM=3%11b情况下可达32dBm，满足频谱模板效率可达20%@28dBm增益可达34dB片上输入/输出匹配RFMDRFMD（与TriQuint合并以后称为Qorvo，但笔者还是喜欢称之为RFMD，Qrovo实在是太拗口了）作为一家老牌的射频器件厂商，相信有些读者比我更了解，但笔者还是决定对RFMD做个简单介绍；RFMicroDevices公司（简称RFMD）是全球的高性能射频元件和化合物半导体技术的设计和制造商。RFMD的产品可用于蜂窝手机，无线基础设施，无线局域网络（WLAN），CATV/宽频及航空航天和国防市场，提供增强的连接性，并支持先进的功能。RFMD凭借其多样化的半导体技术以及RF系统专业技能，成为世界的移动设备，客户端和通讯设备制造商的优先供应商。射频功率放大器(RF PA)是发射系统中的主要部分。坪山区射频功率放大器系列

射频功率放大器(RF PA)是发射系统中的主要部分，其重要性不言而喻。30-500MHz射频功率放大器定制

经过数十年的发展，GaN技术在全球各大洲已经普及。市场的厂商主要包括SumitomoElectric、Wolfspeed（Cree科锐旗下）、Qorvo，以及美国、欧洲和亚洲的许多其它厂商。化合物半导体市场和传统的硅基半导体产业不同。相比传统硅工艺，GaN技术的外延工艺要重要的多，会影响其作用区域的品质，对器件的可靠性产生巨大影响。这也是为什么目前市场的厂商都具备很强的外延工艺能力，并且为了维护技术秘密，都倾向于将这些工艺放在自己内部生产。GaN-on-SiC更具有优势。尽管如此，Fabless设计厂商通过和代工合作伙伴的合作，发展速度也很快。凭借与代工厂紧密的合作关系以及销售渠道，NXP和Ampleon等厂商或将改变市场竞争格局。同时，目前市场上还存在两种技术的竞争：GaN-on-SiC（碳化硅上氮化镓）和GaN-on-Silicon（硅上氮化镓）。它们采用了不同材料的衬底，但是具有相似的特性。理论上，GaN-on-SiC具有更好的性能，而且目前大多数厂商都采用了该技术方案。不过，M/A-COM等厂商则在极力推动GaN-on-Silicon技术的应用。未来谁将主导还言之过早，目前来看，GaN-on-Silicon仍是GaN-on-SiC解决方案的有力挑战者。全球GaN射频器件产业链竞争格局GaN微波射频器件产品推出速度明显加快。30-500MHz射频功率放大器定制

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